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PD-GP-701陶瓷鏡面拋光液
非金屬研磨液系列PD-GP-701陶瓷鏡面拋光液比重（g/ml）:1.30±0.05固含量（%）:40±1粒徑:D50=100±0.5nmpH:10±0.5利用大粒徑二氧化硅 顆粒進(jìn)行機(jī)械磨削， 快速出光；利用球形 二氧化硅顆粒進(jìn)行拋光，減少對加工件造成物理損傷，達(dá)到高平坦化。
PD-GP-603二氧化硅精拋液
不銹鋼研磨拋光液系列PD-GP-603二氧化硅精拋液比重：1.30±0.05(g/ml)固含量：40±1(%)；粒徑：D50=60±5nmpH：10±0.5添加光亮助劑，可提升加工件的光亮度，適合不銹鋼材料鏡面拋光。
PD-GP-602精拋液
鋁合金＆鈦合金研磨液PD-GP-602精拋液比重:1.20±0.05(g/ml)固含量:25±1(%)粒徑:D50=100±5nmpH:10±0.5懸浮體系穩(wěn)定，不易結(jié)晶，可循環(huán)使用；拋光效果好，拋光件亮度高，粗糙度低，無橘皮、麻點等拋光不良。
PD-GP-601精拋液
鋁合金＆鈦合金研磨液PD-GP-601精拋液比重：20±0.05(g/ml)固含量:25±1(%)粒徑:D50=60±5nmpH:10±0.5以球形二氧化硅為磨料，拋光液不結(jié)晶、易清 洗，配合適宜的拋光墊使用可得到高品質(zhì)的鏡 面效果。
PD-DA-M01金剛石研磨液
不銹鋼研磨拋光液系列PD-DA-M01金剛石研磨液比重：1.05±0.05(g/ml)固含量：5±0.5(%)粒徑：D50=1.5±0.5μmpH：3±0.5 以微米級單晶鉆石為磨料，配合拋光銅盤使用，切削力強(qiáng)且加工件表面損傷小，可縮短加 工時間。
PD-CEP-02玻璃拋光液
非金屬研磨液系列PD-CEP-02玻璃拋光液比重（g/ml）:1.95±0.05固含量（%）:70±1粒徑:D50=1.0-1.5μm D100≤3.5μmpH:10±0.5高氧化鈰磨料分散均 勻，耐磨性好，短時 間研磨即可得到明亮清透無瑕疵的產(chǎn)品， 磨料粒徑分布收斂 無大顆粒,不易在加 工件表面造成劃傷。
PD-AP-61堿性氧化鋁精拋液
不銹鋼研磨拋光液系列PD-AP-61堿性氧化鋁精拋液比重：1.05±0.05(g/ml)；固含量：3.5±0.5(%)；粒徑：D50=2±0.5μm；pH：8.5±0.5 納米級磨料，加工件可達(dá)到鏡面效果；弱堿性配方，不腐蝕拋光機(jī)臺，可循環(huán)使用，用量少 , 成本低。
PD-AP-51濕拋液
鋁合金＆鈦合金研磨液系列PD-AP-51濕拋液比重:1.10±0.05(g/ml)固含量:12±1(%)pH:7.5±0.5粒徑:D50=2±0.5um中性配方，安全不腐蝕拋光機(jī)臺，適合循環(huán)使用，拋光效果好,工件表面紋路細(xì)膩，清洗后可直接進(jìn)行鏡面拋光。
PD-AP-41酸性氧化鋁精拋液
不銹鋼研磨拋光液系列PD-AP-41酸性氧化鋁精拋液比重：1.10±0.05(g/ml)固含量：20±1(%)粒徑 :D50=0.5-0.8 μmpH：3±0.5納米級磨料，加工件可達(dá)到鏡面效果，在同等條件下切削力是二氧化硅精拋液的 2 倍 以上。
PD-AA-02研磨液
PD-AA-02研磨液比重:1.10±0.05(g/ml)固含量:15±1(%)粒徑:D50=4±1μmpH:3.0±0.5磨料粒度適中，懸浮性及分散性較好，顆粒無團(tuán)聚現(xiàn)象，可快速去除CNC刀紋或砂紙紋而不留深劃傷。
AS/AF藥丸
防指紋鍍膜顆粒是一種通過真空熱蒸發(fā)鍍膜實現(xiàn)產(chǎn)品防油污/防臟污性能的材料。它在真空受熱的情況下把吸附在載體里面的有效成分蒸發(fā)到玻璃或薄膜表面形成疏水疏油的納米級膜層，可以有效起到防指紋的效果。真空鍍膜都是利用氣相沉積的原理，在真空環(huán)境下，通過各種蒸發(fā)、濺射、離子轟擊等方法使膜料在工件表面沉積而得到所需的
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